PlasmaBrush PB3 - 高功率等離子發生器

適用于工業生產流程和高速應用領域

噴嘴式等離子體發生器高度緊湊，由于單極脈沖高壓源和噴嘴中的渦流流動（PAA-Pulsed  Atmospheric Arc Technology®）的結合，具有長期穩定性。在這種動態控制的操作模式下，可以防止電弧滯留在“熱點"，并且可以最大限度地減少噴嘴腐蝕。

堅固耐用的工業設計中協調的組件： 19英寸高功率電壓電源PS2000和等離子發生器 PB3，通過10m柔性電纜連接，可輕松集成到任何設施中。

產品優點

•緊湊且堅固耐用

•使用壽命長

•適用于壓縮空氣、氮氣和特殊氣體

•適合與機器人一起使用

•氣體流量和溫度工作范圍寬

•外殼受熱程度低

•可換噴嘴

技術參數