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FilmTek™ 6000標準桿數-SE多模薄膜計量系統在1x nm設計節點和更高的位置為廣泛的薄膜層提供生產驗證的薄膜厚度、折射率和應力測量監測。該系統能夠在新一代集成電路的生產過程中實現更嚴格的過程控制，提高器件產量，并支持下一代節點技術的開發。

制造1x nm的IC器件需要使用高度均勻的復合膜。能夠監測非常薄的薄膜的計量工具，通常在多層膜堆疊中（例如，高k和氧化物-氮化物-氧化物膜），使制造商能夠保持對膜構建過程的嚴格控制。此外，一些工藝，如多重圖案化，會導致薄膜厚度的梯度，必須對其進行監控，以獲得佳器件性能（例如，注入損傷和低k薄膜）。

不幸的是，現有的計量工具依賴于傳統的橢偏測量或反射測量技術，其檢測這些應用的薄膜梯度變化的能力有限。

為了克服這些挑戰，FilmTek 6000標準桿數-SE將光譜橢圓偏振儀和DUV多角度極化反射儀與寬光譜范圍相結合，以滿足與多圖案和其他前沿器件制造技術相關的需求。

該系統采用我們多角度差分偏振（MADP）和差分功率譜密度（DPSD）技術，可獨立測量薄膜厚度和折射率，顯著提高其對薄膜變化的靈敏度，尤其是多層堆疊中的變化。這種組合方法對于用于復雜器件結構的超薄和厚膜疊層都是理想的。

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